 Intel, Samsung и Toshiba объединяют усилия с целью разработки технологий производства микросхем с нормами на уровне 10 нанометров.
Как сообщается, названные компании намерены сформировать
консорциум, к которому в перспективе присоединятся ещё около десяти фирм
и организаций, работающих в полупроводниковой и смежных отраслях. На
начальном этапе в проект вложат 10 млрд иен (приблизительно $122 млн),
из которых половину, предположительно, предоставит Министерство
экономики, торговли и промышленности Японии (METI).
Производство микросхем по технологиям с нормами на уровне 10
нанометров планируется освоить в 2016 году. Toshiba и Samsung смогут
использовать этот техпроцесс при изготовлении чипов флеш-памяти NAND, ну
а Intel переведёт на него выпуск своих компьютерных решений.
Напомним, что сейчас самые современные процессоры «Интел» изготавливаются по 32-нанометровой технологии. В следующем году, как ожидается,
корпорация начнёт выпускать 22-нанометровые изделия. Миниатюризация
позволит реализовать в процессорах дополнительные функции и возможности,
которые обеспечат не только увеличение времени автономной работы
портативных устройств от аккумуляторной батареи, но и снижение стоимости
конечных продуктов.
Подготовлено по материалам Рейтер.
|
